半导体超纯水设备是一种专为半导体制造及相关领域设计的高精度水处理系统，其核心功能是通过多级纯化工艺去除水中的杂质，生产出电阻率达18MΩ·cm以上、几乎不含颗粒、离子、有机物和微生物的超纯水。具体如下：
1、半导体超纯水设备的优点：
产水水质高：生产出的超纯水电阻率可达18 MΩ·cm（25℃），几乎不含任何杂质、细菌、病毒、颗粒、有机物和离子等，满足半导体制造对水质的严苛要求，如清洗晶圆表面、制备化学试剂等，避免杂质导致电路短路或缺陷，保障芯片性能和质量。
产水稳定：采用反渗透加EDI系统加抛光混床模块相结合的工艺，出水水质符合国家电子级超纯水标准GBT11446.1 - 1997EW - Ⅰ标准，且水质恒定，不会因树脂再生等问题导致水质波动。
运行成本低：EDI模块无需使用再生化学品进行再生，无需中和药剂，减少了化学药剂的使用和处理成本，同时降低了因酸碱再生产生的有害物质处理工作，保护了环境。
自动化程度高：EDI系统连续工作，自动化程度高，可实现无人值守运行。设备还具有自动保护功能，运行中遇到故障能立即自停，减少人为操作和干预，降低人为误差，方便人员管理。
节能高效：能耗低、水利用率高，采用节能技术和设备，提高能源利用效率，同时智能监控功能可实时监测运行状态和能耗情况，及时发现和解决问题，进一步降低运行成本。
占地面积小：设备设计结构紧凑，采用积木式结构，可根据场地高度和空间灵活构造，相比相当处理水量的混床，体积较小，能为企业节省大量空间。
可定制化：可以根据半导体制造的不同工艺流程对水质的不同要求进行定制化生产，满足多样化的生产需求。
2、半导体超纯水设备的缺点：
初始投资成本较高：由于采用了先进的膜技术、EDI模块等核心部件，以及高精度的控制系统，设备的购置成本相对较高，对于一些小型半导体企业或预算有限的项目来说，可能会构成一定的经济压力。
对进水水质要求较高：虽然设备本身具有多级纯化工艺，但如果进水水质过差，含有大量的悬浮物、余氯、钙镁离子等杂质，可能会影响设备的正常运行和产水水质，增加预处理的难度和成本。
维护技术要求高：设备的运行和维护需要专业的技术人员，对操作人员的技能和知识水平要求较高。例如，EDI模块的维护、膜元件的清洗和更换等，都需要具备一定的专业知识和经验，否则可能会影响设备的性能和使用寿命。
溶解氧控制难度大：在半导体制造过程中，超纯水中的溶解氧（DO）作为易被忽视的隐形杀手，可能导致硅片氧化膜厚度异常、栅极缺陷等致命问题。随着工艺精度提升，溶解氧控制已从传统ppb级迈入亚ppb级管控时代，这对检测技术和设备提出了前所未有的挑战。
