​超纯水设备是一种通过预处理、反渗透及超纯化处理等多级工艺去除水中杂质至痕量级别的精密水处理系统，其产水电阻率可达18MΩ·cm以上。现广泛应用于电子、医药、化工等领域，用于芯片制造、高精度材料清洗及实验室纯水制备。具体如下：
超纯水制备遵循层层净化、逐级提纯原则，核心流程为：原水 → 预处理 → 一级 RO → 二级 RO → EDI / 混床 → 抛光混床 → 超纯水存储与分配
1. 预处理系统（保护核心设备）
多介质过滤器：去除泥沙、悬浮物、胶体
活性炭过滤器：去除余氯、有机物、异味（常用椰壳活性炭，碘值≥1000mg/g）
软化器：去除钙镁离子，防止结垢
精密过滤器：过滤≥5μm 颗粒，保护 RO 膜
2. 反渗透 (RO) 系统（核心脱盐）
原理：0.0001μm 孔径半透膜，在 1.0-1.5MPa 压力下，水分子透过膜，99% 以上离子、有机物、微生物被截留
一级 RO：去除 98% 以上盐分，产水 TDS<50ppm
二级 RO：进一步提纯，产水 TDS<10ppm，为 EDI 提供优质进水
3. EDI 电去离子（连续深度除盐）
原理：电渗析 + 离子交换融合，直流电场 (5-15V) 作用下，离子定向迁移，树脂自动再生，无需酸碱
产水：电阻率≥15 MΩ・cm，TOC≤10ppb，替代传统混床，环保高效
4. 抛光混床（终极提纯）
核级阴阳树脂混合，去除痕量离子，产水稳定达18.2 MΩ·cm，满足半导体等最高纯度需求
5. 终端处理（保障用水点水质）
紫外线杀菌：去除微生物
超滤 / 微滤：去除颗粒物
脱气装置：去除溶解氧、CO₂